主要負責光學臨近修正（OPC）技術的研發和應用，專注於優化光刻工藝

，確保設計圖形在製造中精確轉移：
核心職責包括：
‌1、模型開發與驗證‌：建立光刻過程的物理模型，分析光學衍射效應
，校正設計圖形與實際製造結果之間的偏差；同時設計測試圖形
，收集SEM數據驗證模型準確性，確保模型可靠性和穩定性
2、‌工藝優化與問題解決‌：針對量產中的缺陷問題，優化OPC菜單和掩膜配方，解決弱點和缺陷；包括設計測試掩膜、分析晶圓數據
，並與光刻、刻蝕等團隊協作，提供技術方案以提升製造流程效率和質量。
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、流程建立與標準化‌：參與OPC標準流程的製定、改進和轉移
，例如協助研發部門到光罩廠的技術轉讓
，確保OPC數據按期高質量交付，並優化生產周期以減少延遲。
4、自動化與技術支持‌：編寫Python或Perl等腳本實現工作流程自動化，提升效率和準確性；為客戶提供軟件使用培訓
、現場技術支持，並作為客戶與內部開發團隊的溝通橋梁，解決工藝研發中的挑戰。
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、跨團隊協作與創新‌：與上下遊部門緊密配合，監控測試進度和模型質量
；同時追蹤行業前沿技術，參與OPC軟件產品的定義和優化，推動新方法開發以應對先進工藝需求